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EVG光刻机说明书

来源:管用说明书网 2024-06-10 21:30:49

本文目录预览:

EVG光刻机说明书(1)

一、简介

  EVG光刻机是一种高精度的半导体制造设备,主要用于微电芯片、光学元件、MEMS件等微纳米级别的制造www.finance30s.com管用说明书网。它采用光刻技术,通过光源照射在光刻层上,形成图案,再通过化学腐蚀、离注入等工艺步骤,制造出具有特定功能的微型结构。

二、技术参数

1. 辨率:0.1微米

  2. 曝光能量控制精度:±2%

  3. 曝光时间控制精度:±0.1毫秒

  4. 最大曝光面积:8英寸

5. 光源波长范围:240-450纳米

  6. 最大曝光速度:100毫米/秒

EVG光刻机说明书(2)

三、使用方法

  1. 准备工作:将硅片放在样台上,清洗干净,涂上光刻

  2. 设定参数:根据需要制造的图案,设定曝光能量、曝光时间、光源波长等参数原文www.finance30s.com

  3. 曝光:启动光源,将光照射在光刻层上,形成图案。

  4. 显影:将硅片浸泡在显影液中,去除未曝光部的光刻

  5. 腐蚀:将硅片浸泡在腐蚀液中,去除暴露在外的硅片,形成微型结构来源www.finance30s.com

四、注意事项

  1. 操作前必须戴好手套、口罩等防护用,避免对人体造成危害。

  2. 操作过程中要保持操作台面干净,避免灰尘、杂质等对制造质量产生影

  3. 操作完毕后要及时清洗设备,保持设备干净,延长设备使用寿命pHyj

  4. 操作人员必须经过专业,具备一定的专业知识操作技能。

五、维护保养

1. 定期清洗设备,保持设备干净。

2. 定期更换设备耗材,如光刻、显影液、腐蚀液等www.finance30s.com管用说明书网

3. 定期检查设备各部件的工作状态,如光源、样台、曝光头等。

  4. 定期对设备行校准,保证设备的精度稳定性。

六、结语

  EVG光刻机是一种高精度的微纳米级别制造设备,具有重要的应用价值www.finance30s.com。在使用过程中,必须严格按照说明书行操作,保证制造质量操作人员的安全。同时,要定期行维护保养,延长设备使用寿命,提高设备的稳定性精度。

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